Targedau Sputtering Ceramig

• Targed Sputtering 4N ZrO2 Gyda Cu Backplate

  Mae ein targedau sputtering zirconium deuocsid gyda phlatiau cefn yn cael eu gwneud gan ddefnyddio deunydd zirconium deuocsid purdeb uchel, wedi'i fondio'n ddiogel i blât metel wrth gefn; mae'r...

  Mwy
• Targed Sputtering ZrC Gyda Cu Backplate

  Mae ein targedau sputtering Zirconium Carbide (ZrC) gyda phlatiau cefn copr yn cynnwys bond cadarn rhwng y deunydd targed ZrC purdeb uchel a'r cefn copr. Mae'r dyluniad hwn yn sicrhau dargludedd...

  Mwy
• Ta 5at% Targed Sputtering ZrC Doped

  Mae dopio manwl gywir o Zirconium Carbide gyda chymhareb atomig o 5 y cant o Tantalum yn gwella'n sylweddol ymwrthedd tymheredd uchel, ymwrthedd sioc thermol a gwrthiant cyrydiad y deunydd targed....

  Mwy
• Targed Sputtering 4N IGZO

  Mae ein targedau sputtering 4N IGZO yn darparu perfformiad chwistrellu mwy sefydlog ac effeithlon. Yn arbenigo ar gyfer cymwysiadau arddangos pen uchel a lled-ddargludyddion, maent yn hwyluso...

  Mwy
• 4N HfO2 Targed Gyda Cu Backplate

  Mae'r Targed Sputtering 4N HfO₂ gyda Chefnogaeth Copr yn defnyddio 99.99% o ddeunydd hafnium ocsid purdeb. Wedi'i integreiddio â chefnogaeth copr, mae'n cynnig dargludedd thermol rhagorol ac mae'n...

  Mwy
• 4N HfO2 Wedi'i Dopio Gyda 2% Targed Ti

  Mae'r targed chwistrellu HfO₂ wedi'i dopio o 2% Ti yn cael ei wneud gan ddefnyddio swbstrad hafnium ocsid purdeb uchel, wedi'i ddopio'n union â 2% titaniwm. Wedi'i nodweddu gan ei unffurfiaeth...

  Mwy
• 4N Targed Sputtering HfO2

  4N Uchel-Purdeb Hafnium Deuocsid Sputtering Targed (99.99% Purdeb) - addas ar gyfer ceisiadau mewn haenau optegol, lled-ddargludyddion, ac electroneg drachywir. Nodweddion dwysedd uchel,...

  Mwy
• Targed Sputtering B4C

  Gan ddefnyddio deunyddiau crai carbid boron purdeb uchel, mae'r cynnyrch hwn yn cynnwys caledwch eithriadol a sefydlogrwydd thermol cadarn, gan ei wneud yn ddelfrydol ar gyfer cymwysiadau mewn...

  Mwy
• Gronynnau HfC wedi'u Customized

  Disgrifiad o Gronynnau HfC wedi'u Customized Fel arfer caiff gronynnau HfC eu syntheseiddio drwy adweithio hafnium deuocsid (HfO₂) â charbon ar dymheredd uchel (1900–2300 gradd ) mewn atmosffer...

  Mwy
• Tun Ocsid (SnO2) Targed Sputtering

  Mae targed tun ocsid (SnO2) yn ddeunydd anorganig anfetelaidd pwysig. Oherwydd ei briodweddau ffisegol a chemegol unigryw, mae'n chwarae rhan bwysig mewn llawer o feysydd uwch-dechnoleg. Mae ei...

  Mwy
• Targed Sputtering Tantalum Oxide (Ta2O5).

  Gellir defnyddio Targed Sputtering Tantalum Ocsid mewn lled-ddargludyddion, dyddodiad anwedd cemegol (CVD), arddangosiad dyddodiad anwedd corfforol (PVD), a chymwysiadau optegol. Rydym yn gyflenwr...

  Mwy
• Titanium Ocsid (TiO2) Sputtering Targed

  Titaniwm deuocsid (TiO2) yw'r pigment gwyn a ddefnyddir fwyaf, er enghraifft mewn paent. Mae ganddo ddisgleirdeb uchel a mynegai plygiant uchel iawn (2.609 ar gyfer rutile).

  Mwy