Disgrifiad o Darged Sputtering HfO2 4N
Mae deunydd targed hafnium deuocsid yn ddeunydd swyddogaethol sy'n cynnwys hafnium deuocsid purdeb uchel (HfO₂), a ddefnyddir yn bennaf mewn prosesau dyddodiad ffilm tenau fel Dyddodiad Anwedd Corfforol (PVD) a sputtering magnetron. Mae ei nodweddion craidd yn cynnwys pwynt toddi uchel, sefydlogrwydd cemegol rhagorol, priodweddau inswleiddio trydanol uwch, a thryloywder optegol o fewn ystodau tonfedd penodol. Mae purdeb uchel yn hanfodol i sicrhau unffurfiaeth ffilmiau a adneuwyd, eu perfformiad optegol, a dibynadwyedd dyfeisiau, oherwydd gall amhureddau arwain at ddiffygion ffilm. Mae sefydlogrwydd ansawdd y deunydd targed yn cydberthyn yn uniongyrchol ag atgynhyrchu'r broses adneuo a chynnyrch y cynnyrch terfynol. Gyda datblygiad parhaus technolegau lled-ddargludyddion, optoelectroneg a gweithgynhyrchu uwch, mae'r galw am dargedau hafnium deuocsid perfformiad uchel yn cynyddu'n raddol, gan gyflwyno rhagolygon marchnad eang.
Cymwysiadau Targed Sputtering 4N HfO2
Gweithgynhyrchu Lled-ddargludyddion: Fel deunydd-deuelectrig-uchel-cyson (uchel{{{{{}}}k)), mae'n cael ei ddefnyddio i wneud ynysyddion adwyon transistor uwch, gan gyfrannu at well perfformiad dyfais a miniatureiddio.
Dyfeisiau Optoelectroneg: Oherwydd ei briodweddau optegol eithriadol-megis mynegai plygiant uchel a cholled amsugno isel-mae'n cael ei ddefnyddio'n eang mewn haenau optegol ar gyfer cynhyrchu haenau gwrth-adlewyrchol, hidlwyr optegol, cydrannau laser, a-ffilmiau optegol perfformiad uchel.
Serameg a Haenau Arbenigedd: Gan ddefnyddio ei galedwch uchel a'i wrthwynebiad gwisgo, mae'n gwasanaethu wrth gynhyrchu deunyddiau ceramig uwch yn ogystal â haenau amddiffynnol sy'n gallu gwrthsefyll tymheredd uchel a chorydiad.
Ymchwil Ffiniau: Mewn meysydd sy'n dod i'r amlwg fel cyfrifiadura cwantwm, mae hafnium deuocsid yn dangos potensial i'w gymhwyso fel deunydd deuelectrig ar gyfer cwbits.
Manylebau Targed Sputtering 4N HfO2
Purdeb: 99.9%,99.99%;
Dull Cynhyrchu: sintro gwasg poeth
Dimensiynau sydd ar gael:
Cylchlythyr: Diamedr Llai na neu'n hafal i 14 modfedd, Trwch Mwy na neu'n hafal i 3 mm;
Hirsgwar: Hyd Llai na neu'n hafal i 14 modfedd, Lled Llai na neu'n hafal i 10 modfedd, Trwch Mwy na neu'n hafal i 3 mm.
Math o Bond: Indium
Rheoli Ansawdd a Phrofi Targed Sputtering 4N HfO2
FAQ Ar gyfer 4N HfO2 Targed Sputtering
Ydych chi a ffatri neu agwneuthurwr?
A: Ydym, rydym yn ffatri Targed Sputtering 4N HfO2, ond yn gyffredinol rydym yn defnyddio ein cwmni masnachu i drin y busnes dramor. Bydd yn fwy cyfleus derbyn y taliad a threfnu'r cludo.
Beth yw'r dull cyflwyno?
A: Yn gyffredinol, rydym yn anfon 4N HfO2 Sputtering Target gan UPS, DHL, neu FedEx. Hefyd, gallwn anfon ar y môr i borthladd neu mewn awyren i'r maes awyr agosaf.
Pam mae eich Targed Sputtering HfO2 4N mor gost-effeithiol?
A: Rydym yn torri allan y dynion canol yn y diwedd-i-ddiwedd y broses weithgynhyrchu, ac rydym yn cael deunydd crai yn uniongyrchol o'i ffynhonnell.
Ydych chi'n cynnal arolygiad ansawdd ar hap ocynnyrch?
A: 100% arolygiad llawn yn sicr. Mae pob Targed Sputtering 4N HfO2 diamod yn cael eu taflu.
Sut ydych chi'n sicrhau eich amser arweiniol?
A: O baratoi deunydd i beiriannu ac yn olaf i arolygiad llawn. Mae pob cam o'r cynhyrchiad yn cael ei fonitro a'i reoli'n llym i roi amser dosbarthu cywir i chi.
Beth yw'r MOQ o Darged Sputtering 4N HfO2?
A: Yn dibynnu ar faint o 4N HfO2 Sputtering Target; yn gyffredinol, dim terfyn MOQ.
Sut i dalu amy cynhyrchion?
A: Bydd trosglwyddiad banc (T/T) yn dderbyniol.
Beth yw'r amser dosbarthu?
A: Tua 7-20 diwrnod, sy'n dibynnu ar faint a chynhyrchiad Targed Sputtering 4N HfO2.
Pa fath o becyn ydyw?
A: Yn gyffredinol, rydym yn defnyddio cas carton neu achos pren haenog gyda deunydd amddiffynnol y tu mewn i sicrhau diogelwch Targed Sputtering 4N HfO2.
Beth yw'r amser arweiniol?
A: O'r archeb a roddir i dderbyn cargo bydd yn cymryd tua 10-25 diwrnod.
Tagiau poblogaidd: Targed sputtering hfo2 4n, Tsieina 4n hfo2 sputtering targed cyflenwyr, ffatri
