Boron Carbide (B4C) Targed Sputtering

Carbid Boron: Fe'i darganfuwyd yn y 19eg ganrif fel sgil-gynnyrch ymchwil borid metel ac ni chafodd ei astudio'n wyddonol tan y 1830au. Dyma'r pumed sylwedd anoddaf y gwyddys amdano ar ôl boron nitrid, diemwnt, cyfansoddion ffwlerene a monolithau diemwnt.

1. Argymhellir bondio indiwm ar gyfer y deunydd hwn, oherwydd nad yw rhai o'i nodweddion yn addas ar gyfer sputtering fel brittleness, dargludedd thermol isel, ac ati.
2. Mae gan Boron Carbide Sputtering Target ddargludedd thermol isel ac mae'n agored i sioc thermol.

Defnyddir y targed sputtering boron carbide ar gyfer dyddodiad ffilm tenau, addurno, lled-ddargludyddion, arddangos, dyfeisiau LED a ffotofoltäig, cotio swyddogaethol mor braf â diwydiant gofod storio gwybodaeth optegol arall, diwydiant cotio gwydr fel gwydr ceir a gwydr pensaernïol, cyfathrebu optegol, ac ati.

Tagiau poblogaidd: boron carbide (b4c) targed sputtering, Tsieina boron carbide (b4c) sputtering targed cyflenwyr, ffatri