Targed Sputtering Magnesiwm Ocsid (MgO).

Mae magnesiwm ocsid mewn targedau sputtering yn cael ei adlewyrchu'n bennaf mewn ffurfio ffilmiau cyflym, ei gymhwyso mewn diwydiannau microelectroneg a ffotofoltäig, prosesau paratoi penodol a chymwysiadau cotio helaeth. Mae'r cymwysiadau hyn yn elwa o briodweddau ffisegol a chemegol magnesiwm ocsid ei hun.

Mae cymhwyso magnesiwm ocsid (MgO) mewn targedau sputtering yn cael ei adlewyrchu'n bennaf yn yr agweddau canlynol:

Ffurfio ffilm cyflym: Mae targedau sputtering magnesiwm ocsid yn defnyddio MgO a sylweddau dargludol fel y prif gydrannau. Mae'r cyfansoddiad arbennig hwn yn galluogi'r ffilm MgO i gael ei gyfeirio pan fydd yn cael ei ffurfio gyda MgO gan DC sputtering, a thrwy hynny gyflawni ffurfiant ffilm cyflym wrth ffurfio'r ffilm MgO.

Cymhwyso mewn diwydiannau microelectroneg a ffotofoltäig: Gyda datblygiad diwydiannau microelectroneg a ffotofoltäig, mae targedau magnesiwm ocsid purdeb uchel wedi'u defnyddio'n helaeth mewn cynhyrchion electronig a haenau ffotofoltäig. Mae ei burdeb uchel yn lleihau'r ymyrraeth a achosir gan amhureddau ac yn gwella sefydlogrwydd cynnyrch a bywyd gwasanaeth.

Proses baratoi: Yn y broses o baratoi targedau seramig ocsid perfformiad uchel, mae magnesiwm ocsid yn un o'r targedau sputtering cyffredin. Mae'r slyri ocsid yn cael ei sicrhau trwy melino pêl gwactod, yna gellir cael mowldio slyri, a phroses sintering, targed sputtering magnesiwm ocsid dwysedd uchel, maint mawr.

Cais cotio: Mae'r cotio ffilm tenau sputtering o darged sputtering magnesiwm ocsid wedi'i ddefnyddio'n helaeth mewn diwydiannau fel paneli crisial hylifol, sgriniau cyffwrdd, celloedd solar ffilm denau, a deuodau allyrru golau. Mae cymhwyso'r haenau hyn yn elwa o'r pwynt toddi uchel, inswleiddio rhagorol, gwrthsefyll gwres, eiddo gwrthocsidiol a chorydiad magnesiwm ocsid.

Tagiau poblogaidd: magnesiwm ocsid (mgo) sputtering targed, Tsieina magnesiwm ocsid (mgo) sputtering targed cyflenwyr, ffatri