Disgrifiad Cynnyrch
Targedau Sputtering Ti33Al67 targed
Rydym yn arbenigo mewn cynhyrchu ansawdd uchel Sputtering Targets Ti33Al67 targed sputtering targed, targed ceramig, targed metel.
Mae'r cynhyrchion yn cael eu cymhwyso i wahanol feysydd cotio gwactod trwy wahanol ddulliau (sputtering magnetron, platio gwactod, ac ati): Ymchwil wyddonol, awyrofod, modurol, microelectroneg, diwydiant cylched integredig, ffynhonnell golau, opteg, addurno, diwydiant arddangos panel fflat, gwybodaeth diwydiant storio, storio data ac ati.
Gellir gwneud targed sputtering aloi alwminiwm titaniwm gan ddwy ffordd, HIP a toddi. Y targed fesul HIP fydd dwysedd uwch. Bydd y targed trwy doddi yn burdeb uwch. Mae'r cyfan yn seiliedig ar eich cais.
Purdeb: Al-Ti 33/67 ar% Al/Ti 50/50 ar%, 99.95%, 99.5%
Siâp: Disgiau, Plât, Cam (Dia 300mm, Trwch 1mm) Petryal, Taflen, Cam (Hyd 1000mm, Lled 300mm, Trwch 1mm) Tiwb (Diamedr< 300mm, Thickness >2mm)
Cais: Cynradd a ddefnyddir mewn cotio offer, Falf Di-cyrydiad / Planhigion Cemegol, Diwydiant Morol.
Disgrifiad Targed Sputtering Alwminiwm Titaniwm
|
Purdeb |
Al-Ti (35/67at%), Al/Ti (50:50 yn%), AlTi 97/3wt%, AlTi 95/5wt%, AlTi 90/10wt% |
|
Siâp |
Disgiau, Plât, Gris (Dia Llai na neu'n hafal i 300mm, Trwch yn Fwy na neu'n Hafal i 1mm) (Hyd Llai na neu'n hafal i 1000mm, Lled Llai na neu'n hafal i 300mm, Trwch yn Fwy na neu'n Hafal i 1mm) |
|
Ardystiad |
ISO 9001: 2008 |
|
Manyleb |
Wedi'i addasu fel cais |
|
Proses |
Forged, Rolling, Malu |
|
Cais |
1. Electroplatio; 2. peirianneg gemegol a thechnoleg petrocemegol; 3. Meddygol |
|
Dwysedd |
4.51g/cm³ |
Tagiau poblogaidd: targed ti33al67, cyflenwyr targed ti33al67 Tsieina, ffatri
